基本概念 光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。 光刻机本身是大型光电设备，是制造芯片的硬件设备，本身就是以台为单位。但这样描述没什么意义，通常来说是按光刻机的工艺制程纳米来描述。 比如同样是193纳米深紫外光光源的光刻机，通过浸润式可以压缩到143纳米，通过物镜组可以压缩到90、55、28纳米等，所以一般用纳米制程来表示单位。 光刻机是一种半导体制造设备...
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