TAG：物理气相沉积

三要素： 1) 镀料的气化。 即使镀料蒸发，升华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。 2) 镀料原子、分子或离子的迁移。 由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。 3) 镀料原子、分子或离子在基体上沉积。 物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。 物理气相沉淀： 物理气相沉积...

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原理如下所示： 在真空条件下采用物理方法将材料源（固体或液体）表面气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术， 物理气相沉积是主要的表面处理技术之一...

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